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供应磁控溅射靶

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    我公司开发的圆形磁控溅射靶直径范围为:50~250mm;靶结构材料选取适合高真空的优质不锈钢和铜合金材料;磁场源采用稳定性*高的稀土钐钴永磁材料;磁场采用模块化排布并进行优化设计,有效地提高靶材利用率和设备稳定性;冷却水循环量为1L/min,能有效的保证设备的冷却效果;根据不同设备可以配置不同角度的安装头;采用Φ20不锈钢导管,复合法兰进行安装,适用于高真空高纯度镀膜。另外其他特殊性能可根据客户需要进行设计。 

圆形磁控溅射靶应用领域:直径50~150mm靶主要应用于大专院校与科研院所研究性磁控溅射镀膜设备使用;直径150mm以上靶为生产型磁控溅射镀膜设备采用。

 
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